发明授权
- 专利标题: 电弧式蒸发源
- 专利标题(英): Arc evaporation source
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申请号: CN200880006759.3申请日: 2008-02-15
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公开(公告)号: CN101636519B公开(公告)日: 2011-04-20
- 发明人: 辻胜启 , 西村和也
- 申请人: 株式会社理研 , 日新电机株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 株式会社理研,日新电机株式会社
- 当前专利权人: 株式会社理研
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张宝荣
- 优先权: 052550/2007 2007.03.02 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/052506 2008.02.15
- 国际公布: WO2008/108149 JA 2008.09.12
- 进入国家日期: 2009-09-01
- 主分类号: C23C14/32
- IPC分类号: C23C14/32
摘要:
本发明提供一种能够抑制电弧点向阴极蒸发面以外的部分移动的电弧式蒸发源。所述电弧式蒸发源通过由磁场控制的电弧放电来使阴极(22)的阴极物质蒸发,其具备:磁场形成机构(42),其在阴极前端的蒸发面(22a)附近形成与阴极中心轴(Ax)平行的成分强的磁场(M),且配置在阴极的外侧;支承机构(26),其支承阴极;冷却机构(61),其冷却阴极;锥形环(64),其形成圆锥台状,具有使阴极沿其轴向贯通的贯通孔,且配置成向着阴极的蒸发面逐渐变细,锥形环由强磁性体构成,使用时锥形环的前端(64a)与阴极的蒸发面位于相同的面或位于比蒸发面稍后退的位置。
公开/授权文献
- CN101636519A 电弧式蒸发源 公开/授权日:2010-01-27
IPC分类: