发明公开
- 专利标题: 形成黑矩阵的方法和系统
- 专利标题(英): Method and system for forming black matrix
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申请号: CN200880007709.7申请日: 2008-03-07
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公开(公告)号: CN101632037A公开(公告)日: 2010-01-20
- 发明人: 成知玹 , 李承宪 , 李惠贞 , 李顺烈 , 田景秀 , 姜杨求
- 申请人: LG化学株式会社
- 申请人地址: 韩国首尔
- 专利权人: LG化学株式会社
- 当前专利权人: LG化学株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国首尔
- 代理机构: 北京金信立方知识产权代理有限公司
- 代理商 朱梅; 鲁云博
- 优先权: 10-2007-0023708 2007.03.09 KR
- 国际申请: PCT/KR2008/001307 2008.03.07
- 国际公布: WO2008/111768 EN 2008.09.18
- 进入国家日期: 2009-09-09
- 主分类号: G02F1/1335
- IPC分类号: G02F1/1335
摘要:
一种形成黑矩阵的方法,该方法包括以下步骤:(S1)将黑矩阵形成墨水涂覆到具有凹版图形的弹性模子上;(S2)将涂覆到所述弹性模子的浮雕部上的墨水移除;(S3)将保留在所述弹性模子的凹雕部中的墨水转录到基板上;以及(S4)将转录到基板上的墨水固化并干燥。所述步骤(S2)可以下述方式进行:将具有表面能为 2 >~ 2 >的墨水移除单元的表面紧密地附着到所述弹性模子的浮雕部上,然后从该浮雕部移开墨水移除单元。该方法通过使用凹版印刷法而能够以简单和经济的方式形成黑矩阵。
公开/授权文献
- CN101632037B 形成黑矩阵的方法和系统 公开/授权日:2011-08-31
IPC分类: