发明授权
CN101592875B 清洗方法及清洗机台
失效 - 权利终止
- 专利标题: 清洗方法及清洗机台
- 专利标题(英): Cleaning method and cleaning machine
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申请号: CN200810113695.9申请日: 2008-05-29
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公开(公告)号: CN101592875B公开(公告)日: 2012-02-29
- 发明人: 刘佑铭 , 何永根
- 申请人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
- 申请人地址: 北京市北京经济技术开发区文昌大道18号
- 专利权人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
- 当前专利权人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市北京经济技术开发区文昌大道18号
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 李丽
- 主分类号: G03F7/42
- IPC分类号: G03F7/42 ; H01L21/311
摘要:
一种清洗方法,包括,配制包含清洗溶液和氧化溶液的混合溶液;利用所述混合溶液对运行于清洗机台中的所述基底执行清洗操作,所述混合溶液的配置过程是利用所述清洗机台在所述基底的运行过程中完成的,且配制所述混合溶液时放出热量。可增强清洗效果且不增加设备的能量消耗。本发明还提供了一种清洗机台,可增强清洗效果且不增加能量消耗。
公开/授权文献
- CN101592875A 清洗方法及清洗机台 公开/授权日:2009-12-02
IPC分类: