发明授权
- 专利标题: 投影机
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申请号: CN200910159739.6申请日: 2007-02-16
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公开(公告)号: CN101592853B公开(公告)日: 2011-12-21
- 发明人: 西田和弘 , 石桥治
- 申请人: 精工爱普生株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 精工爱普生株式会社
- 当前专利权人: 精工爱普生株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 陈海红; 段承恩
- 优先权: 042955/2006 2006.02.20 JP
- 分案原申请号: 2007100788306 2007.02.16
- 主分类号: G03B21/14
- IPC分类号: G03B21/14 ; G03B21/20 ; G02B27/28 ; G02B27/10 ; F21V7/04
摘要:
投影机具备均匀照明光学系统(41)。均匀照明光学系统(41)具备通过多个第1透镜(4121)将光束分割为多束部分光束的第1透镜阵列(412)、具有多个第2透镜(4131)的第2透镜阵列(413)和使光束的偏振方向一致为大致1种的偏振变换元件(414)。偏振变换元件(414)具备在第1方向具有较长方向的偏振分离层(4141)、沿大致正交于第1方向的第2方向(B)与偏振分离层交替配置的反射层(4142)和对入射的偏振光的偏振方向进行变换的相位差层(4144)。第1透镜(4121)在第1方向的焦点位置设定于第2透镜阵列(413)附近;第2方向(B)的焦点位置设定于偏振变换元件(414)附近。
公开/授权文献
- CN101592853A 投影机 公开/授权日:2009-12-02