发明授权

智能调整器冲洗站
摘要:
本发明提供一种用于监控研磨衬垫调整机构的方法及设备。在一个实施例中,半导体基材研磨系统包括冲洗站、研磨表面、调整件以及调整机构。所述调整机构可选择性将调整件定位于研磨表面及冲洗站上方。并提供至少一个传感器且将所述传感器配置成在位于冲洗站上方时检测所述调整件的第一位置及第二位置。
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