- 专利标题： 用于减少等离子体处理系统中的副产品沉积的方法和装置
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申请号： CN200580047552.7申请日： 2005-12-16
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公开(公告)号： CN101422088B公开(公告)日： 2012-02-01
- 发明人: 什里坎特·P·洛霍卡雷 , 安德鲁·D·贝利三世
- 申请人： 朗姆研究公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海胜康律师事务所
- 代理商 周文强; 李献忠
- 优先权： 11/022,982 2004.12.22 US
- 国际申请： PCT/US2005/045729 2005.12.16
- 国际公布： WO2006/081004 EN 2006.08.03
- 进入国家日期： 2007-07-31
- 主分类号： H05H1/24
- IPC分类号： H05H1/24 ; H05K9/00 ; C23C14/00
摘要：
本发明公开了一种在等离子体处理系统中用于减少等离子体处理室的一组等离子体室表面上的副产品沉积的方法。该方法包括：在等离子体处理室中设置沉积屏障，该沉积屏障被配置为置于等离子体处理室的等离子体生成区中，从而使得等离子体在等离子体处理室内被撞击时所生成的至少一些工艺副产品能粘附在该沉积屏障上，并减少了一组等离子体处理室表面上的副产品沉积。
公开/授权文献
- CN101422088A 用于减少等离子体处理系统中的副产品沉积的方法和装置 公开/授权日：2009-04-29
IPC分类:
