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发明授权
CN101405654B 感光性组合物以及使用其的显示装置用遮光膜形成用材料以及感光性转印材料 失效 - 权利终止

  • 专利标题： 感光性组合物以及使用其的显示装置用遮光膜形成用材料以及感光性转印材料
  • 专利标题（英）： Photosensitive composition, and material for formation of light-shield film for display device or photosensitive transfer material using the composition
  • 申请号： CN200780010274.7
    申请日： 2007-03-01
  • 公开(公告)号： CN101405654B
    公开(公告)日： 2012-03-07
  • 发明人: 吉村耕作 , 宫宅一仁 , 佐佐木广树
  • 申请人： 富士胶片株式会社
  • 申请人地址： 日本国东京都
  • 专利权人： 富士胶片株式会社
  • 当前专利权人： 富士胶片株式会社
  • 当前专利权人地址： 日本国东京都
  • 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
  • 代理商 朱丹
  • 优先权： 081771/2006 2006.03.23 JP
  • 国际申请： PCT/JP2007/053889 2007.03.01
  • 国际公布： WO2007/108291 JA 2007.09.27
  • 进入国家日期： 2008-09-23
  • 主分类号： G03F7/004
  • IPC分类号： G03F7/004 ;  G02B5/20 ;  G03F7/033
感光性组合物以及使用其的显示装置用遮光膜形成用材料以及感光性转印材料
摘要：
本发明的感光性组合物，其特征在于，含有金属粒子和/或具有金属的粒子、碱可溶性树脂、具有乙烯性不饱和双键的加成聚合性单体、和光聚合引发剂，该碱可溶性树脂是含有30～90质量％的用下述通式(1)表示的重复单元B、且酸值为50mgKOH/g以上、I/O值为0.45～0.65的共聚物。在通式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示可以具有环结构或支链结构的碳数2～8的烷基。本发明进而还提供使用该感光性树脂的显示装置用遮光膜形成用材料以及感光性转印材料。
摘要（英）：

Disclosed is a photosensitive composition comprising a metal particle and/or a particle having a metal, an alkali-soluble resin, an addition-polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated double bond, and a photopolymerization initiator, wherein the alkali-soluble resin is a copolymer containing 30 to 90% by mass of a repeat unit B represented by the general formula (1), and having an acid value of 50 mgKOH/g or more and an I/O value of 0.45 to 0.65, wherein in the general formula (1), R<1> represents a hydrogen atom or a methyl group; and R<2> represents an alkyl group having 2 to8 carbon atoms which may have a ring structure or a branched structure. Also disclosed is a material for the formation of a light-shield film for a display device or a photosensitive transfer material using the composition.

公开/授权文献
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