发明授权
- 专利标题: 光电元件及其制造方法
- 专利标题(英): Optoelectronic element and manufacturing method therefor
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申请号: CN200710154618.3申请日: 2007-09-17
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公开(公告)号: CN101393952B公开(公告)日: 2011-01-05
- 发明人: 蔡宗良 , 李玉柱
- 申请人: 广镓光电股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾台中市工业区34路40号
- 专利权人: 广镓光电股份有限公司
- 当前专利权人: 晶元光电股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾台中市工业区34路40号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 周长兴
- 主分类号: H01L33/00
- IPC分类号: H01L33/00
摘要:
本发明提供一种光电元件,包含:第一电极、基板形成于第一电极上;缓冲层形成于基板上,其中该缓冲层包含:第一含氮化合物层形成在基板之上、五族/二族化合物层形成在第一含氮化合物层之上、第二含氮化合物层形成在五族/二族化合物层之上、及第三含氮化合物层形成在第二含氮化合物层之上;接着,第一半导体导电层形成在缓冲层上;主动层形成在第一半导体导电层上,其中主动层为具有多个不规则且高低起伏形状之多层量子井;第二半导体导电层形成在主动层上;透明导电层形成于第二半导体导电层上;及第二电极形成在透明导电层上。
公开/授权文献
- CN101393952A 光电元件及其制造方法 公开/授权日:2009-03-25
IPC分类: