发明授权
CN101284367B 直流脉冲式双电极微小型研磨抛光工具
失效 - 权利终止
- 专利标题: 直流脉冲式双电极微小型研磨抛光工具
- 专利标题(英): DC pulse type bielectrode microminiature grinding and polishing tool
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申请号: CN200810106728.7申请日: 2008-05-15
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公开(公告)号: CN101284367B公开(公告)日: 2010-08-25
- 发明人: 程灏波 , 任力强
- 申请人: 北京理工大学
- 申请人地址: 北京市海淀区中关村南大街5号
- 专利权人: 北京理工大学
- 当前专利权人: 北京理工大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区中关村南大街5号
- 代理机构: 北京理工大学专利中心
- 代理商 张利萍
- 主分类号: B24B13/01
- IPC分类号: B24B13/01 ; B24B23/00
摘要:
本发明为直流脉冲式双电极微小型研磨抛光工具,属于光学表面加工工具领域。本发明的目的是为了设计一种点接触式、一体化的小型确定性研抛工具,该抛光工具由紧顶螺母,外壳,电池,电路板和电极组成。本发明通过振荡电路系统,输出脉冲高压至两针状正负电极,正负电极之间的高压场致电流变液体发生流变效应,表观粘度显著增强并且发生聚集,具有研磨抛光能力的散粒磨料离散分布在两针状电极之间形成链状结构,结合工具和被加工工件之间的相对运动,实现工件表面的材料去除,达到微细研磨和抛光的目的。本发明适用于小口径光学异型曲面的超精密加工。
公开/授权文献
- CN101284367A 直流脉冲式双电极微小型研磨抛光工具 公开/授权日:2008-10-15