一种集成电路，一种用于设计该集成电路的方法和系统，以及一种用于制作该集成电路的方法。该方法包括：(a)生成集成电路的集成电路设计(300)的光掩模级设计，该光掩模级设计包括多个集成电路元件形状；(b)指定光掩模级设计在相邻集成电路元件形状之间的区域，这些指定区域大到足以需要基于填充形状规则(310)在相邻集成电路元件之间设置填充形状(305)，这些填充形状不是集成电路的操作所需的；以及(c)在指定区域中的至少一个指定区域中设置监视器结构(315)的一个或者多个监视器结构形状(320)，该监视器结构不是集成电路的操作所需的。