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发明公开
CN101076221A 多个辐射源的等离子体产生和处理 失效 - 权利终止

  • 专利标题： 多个辐射源的等离子体产生和处理
  • 专利标题（英）： Multiple radiation sources plasma generating and processing
  • 申请号： CN200710107412.5
    申请日： 2003-05-07
  • 公开(公告)号： CN101076221A
    公开(公告)日： 2007-11-21
  • 发明人: S·库马尔 , D·库马尔
  • 申请人： BTU国际公司
  • 申请人地址： 美国马萨诸塞州
  • 专利权人： BTU国际公司
  • 当前专利权人： BTU国际公司
  • 当前专利权人地址： 美国马萨诸塞州
  • 代理机构： 北京市中咨律师事务所
  • 代理商 杨晓光; 刘瑞东
  • 优先权： 60/378,693 2002.05.08 US; 60/430,677 2002.12.04 US; 60/435,278 2002.12.23 US
  • 分案原申请号： 038102676
  • 主分类号： H05H1/46
  • IPC分类号： H05H1/46 ;  H01J37/32
多个辐射源的等离子体产生和处理
摘要：
本发明提供了使用多个辐射源的等离子体辅助方法和装置。在一个实施例中，在惰性或活性等离子体催化剂存在的情况下，通过使处理腔中的气体受到频率低于约333GHz的电磁辐射来激发等离子体。使用控制器来延迟一个辐射源相对于另一个辐射源的激活。
摘要（英）：

Plasma-assisted methods and apparatus that use multiple radiation sources are provided. In one embodiment, a plasma is ignited by subjecting a gas in a processing cavity to electromagnetic radiation having a frequency less than about 333 GHz in the presence of a plasma catalyst, which may be passive or active. A controller can be used to delay activation of one radiation source with respect to another.

公开/授权文献
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