发明授权
- 专利标题： 甲硅烷基烷氧基甲基卤化物的制备方法
- 专利标题（英）： Method of producing silylalkoxymethyl halide
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申请号： CN200580034960.9申请日： 2005-09-28
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公开(公告)号： CN101039949B公开(公告)日： 2015-05-06
- 发明人: 脇田启二
- 申请人： 陶氏康宁东丽株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 陶氏康宁东丽株式会社
- 当前专利权人： 陶氏康宁东丽株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 张钦
- 优先权： 298875/2004 2004.10.13 JP
- 国际申请： PCT/JP2005/018405 2005.09.28
- 国际公布： WO2006/040964 EN 2006.04.20
- 进入国家日期： 2007-04-13
- 主分类号： C07F7/08
- IPC分类号： C07F7/08
摘要：
一种高产率制备通式R1R2R3Si-R4-O-CH2X代表的甲硅烷基烷氧基甲基卤化物的方法，其中R1、R2、和R3为烷基、环烷基、芳基或卤原子，R4为具有1-10个碳原子的二价烃基，和X为卤原子，该方法包括使(a)通式R1R2R3Si-R4-OH代表的甲硅烷基醇化合物，其中R1、R2、R3和R4如上定义，与(b)甲醛或其聚合物和(c)卤代硅烷反应。
公开/授权文献
- CN101039949A 甲硅烷基烷氧基甲基卤化物的制备方法 公开/授权日：2007-09-19
