发明授权
- 专利标题: 膜接合方法、膜接合装置以及半导体器件制造方法
- 专利标题(英): Film bonding method, film bonding apparatus, and semiconductor device manufacturing method
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申请号: CN200610100026.9申请日: 2006-06-28
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公开(公告)号: CN101026101B公开(公告)日: 2010-05-12
- 发明人: 新城嘉昭 , 下别府佑三 , 手代木和雄 , 吉本和浩
- 申请人: 富士通微电子株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 富士通微电子株式会社
- 当前专利权人: 株式会社索思未来
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 隆天国际知识产权代理有限公司
- 代理商 张龙哺
- 优先权: 2006-042135 2006.02.20 JP
- 主分类号: H01L21/50
- IPC分类号: H01L21/50 ; H01L21/00
摘要:
本发明提供膜接合方法、膜接合装置以及半导体器件制造方法。该膜接合方法能够在不引起任何断裂的情况下接合芯片贴装膜。利用膜设置辊和膜接合辊朝着接合有表面保护胶带的晶片按压芯片贴装膜,并向辊之间的区域照射具有预定形状的激光束。在旋转移动膜设置辊和膜接合辊的同时,随着它们的移动在晶片上扫描激光束。通过跟随膜设置辊的膜接合辊,朝着晶片按压被激光束熔融的芯片贴装膜部分,以将芯片贴装膜接合到晶片。由于利用激光束来熔融芯片贴装膜从而将芯片贴装膜接合到晶片上,因此即使晶片较薄并且强度减小,也能使晶片避免例如由表面保护胶带的热收缩带来的损坏。
公开/授权文献
- CN101026101A 膜接合方法、膜接合装置以及半导体器件制造方法 公开/授权日:2007-08-29
IPC分类: