发明授权
CN100593364C 电子器件及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 电子器件及其制造方法
- 专利标题(英): Electronic device and method of manufacturing same
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申请号: CN200710195966.5申请日: 2007-12-07
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公开(公告)号: CN100593364C公开(公告)日: 2010-03-03
- 发明人: 小林弘
- 申请人: 富士通株式会社
- 申请人地址: 日本神奈川县
- 专利权人: 富士通株式会社
- 当前专利权人: 富士通株式会社
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县
- 代理机构: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 赵飞
- 优先权: 2007-009261 2007.01.18 JP
- 主分类号: H05K3/30
- IPC分类号: H05K3/30 ; H05K1/18 ; H01L21/50 ; H01L21/56 ; H01L21/58 ; H01L21/603 ; H01L23/498 ; H01L23/12
摘要:
一种制造电子器件的方法包括:对由树脂制成的膜的下方表面进行粗糙化,所述下方表面与膜中用于安装电路芯片的安装表面相反;在膜的安装表面上形成导体图案,从而获得由膜制成的基体,其上形成电路图案;将热固性粘合剂涂覆到基体中形成有导体图案的表面。该方法还包括:通过热固性粘合剂把要连接到导体图案的电路芯片安装在基体上;用具有施压器部分和支撑部分的加热设备夹住基体,所述施压器部分毗邻安装在基体上的电路芯片,所述支撑部分毗邻经过粗糙化的膜的下方表面;用加热设备对热固性粘合剂进行加热并使之硬化来将电路芯片固定到导体图案。
公开/授权文献
- CN101227799A 电子器件及其制造方法 公开/授权日:2008-07-23