Invention Grant
CN100558309C 高频处置装置
失效 - 权利终止
- Patent Title: 高频处置装置
- Patent Title (English): High-frequency treatment device
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Application No.: CN200580033988.0Application Date: 2005-10-05
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Publication No.: CN100558309CPublication Date: 2009-11-11
- Inventor: 林田刚史 , 谷口一德 , 永山茂生 , 肘井一也
- Applicant: 奥林巴斯株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 奥林巴斯株式会社
- Current Assignee: 奥林巴斯株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 北京三友知识产权代理有限公司
- Agent 黄纶伟
- Priority: 292955/2004 2004.10.05 JP
- International Application: PCT/JP2005/018422 2005.10.05
- International Announcement: WO2006/038646 JA 2006.04.13
- Date entered country: 2007-04-05
- Main IPC: A61B18/12
- IPC: A61B18/12 ; A61B18/14

Abstract:
本发明提供一种高频处置装置。该高频处置装置具备:产生高频电流的高频发生单元;电极器,其与该高频发生单元电连接,前端具有对所述高频电流进行放电的施加电极,该施加电极的基端侧被第1绝缘材料覆盖;作为来自所述施加电极的所述高频电流的返回侧的插入部,其收纳该电极器并使该电极器可在预定方向上自由移动;输液单元,其通过该插入部将灌注液输送到所述施加电极附近;以及第2绝缘材料,其由能够自由变更覆盖范围的伸缩材料形成,针对从所述第1绝缘材料的前端露出的所述施加电极的根部部分,该第2绝缘材料从该第1绝缘材料沿着该施加电极、在预定范围内覆盖该施加电极的外表面,从而能够利用更小的功率在灌注液中进行组织的切除、气化、电凝等,而且可以缩短手术时间。
Public/Granted literature
- CN101035478A 高频处置装置 Public/Granted day:2007-09-12
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