发明授权
CN100527444C 金属/氮化镓铝/氮化镓横向肖特基二极管及其制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 金属/氮化镓铝/氮化镓横向肖特基二极管及其制备方法
- 专利标题(英): Metal/gallium nitride aluminum /gallium nitride lateral direction schottky diode with low current collection side effect and method of producing the same
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申请号: CN200610097597.1申请日: 2006-11-10
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公开(公告)号: CN100527444C公开(公告)日: 2009-08-12
- 发明人: 陈家荣 , 王玉琦 , 陈文锦 , 邱凯 , 李新化
- 申请人: 中国科学院合肥物质科学研究院
- 申请人地址: 安徽省合肥市1110信箱
- 专利权人: 中国科学院合肥物质科学研究院
- 当前专利权人: 中国科学院合肥物质科学研究院
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市1110信箱
- 主分类号: H01L29/872
- IPC分类号: H01L29/872 ; H01L21/329
摘要:
本发明公开了一种具有低电流集边效应的金属/氮化镓铝/氮化镓横向肖特基二极管及其制备方法。二极管为衬底(1)上有氮化镓层(2)、正极、负极(3)和掩模(4),正极含氮化镓铝层(8)、肖特基接触金属层(7)、多晶硅层(6)和金属电极层(5);方法为(a)先使用外延法于衬底上生长氮化镓层,再分别使用现有方法于其上分别生长或淀积正极、负极和掩模;(b)使用低压化学气相淀积法或金属溅射法或电子回旋共振-等离子体增强化学气相淀积法于肖特基接触金属层上淀积多晶硅层,同时使用离子注入或扩散法或化学气相淀积中的掺杂法来调整多晶硅层的电阻率,制得本发明二极管。它的正极边缘处的电流分布均匀,极适用于高温大功率器件。
公开/授权文献
- CN101179098A 具有低电流集边效应的金属/氮化镓铝/氮化镓横向肖特基二极管及其制备方法 公开/授权日:2008-05-14
IPC分类: